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美國(guó)正在推動(dòng)荷蘭ASML禁止向中國(guó)銷售DUV光刻機(jī)，從而阻止中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的崛起。媒體表示，如果ASML同意，這將繼續(xù)擴(kuò)大禁止進(jìn)入中國(guó)的芯片制造設(shè)備的范圍和類別，這可能對(duì)從中國(guó)芯片制造商造成嚴(yán)重打擊。
但是據(jù)了解，國(guó)產(chǎn)DUV光刻機(jī)產(chǎn)品很快就能成批推出、規(guī)模采用。上海微電子研發(fā)出的28納米國(guó)產(chǎn)光刻機(jī)整機(jī)已經(jīng)安排生產(chǎn)，再過一兩年一定能用于國(guó)產(chǎn)芯片的生產(chǎn)，而且，按中芯國(guó)際梁孟松在2020年就說到的，一定能用于規(guī)模量產(chǎn)7納米芯片，而且良品率還能達(dá)到業(yè)界標(biāo)準(zhǔn)吧，梁孟松當(dāng)時(shí)說的是只有制造5、3納米的芯片才“只待”、也就是只需EUV光刻機(jī)，梁孟松的話自然是可信的。
放眼未來，半導(dǎo)體的產(chǎn)業(yè)鏈的可靠性和安全性都值得懷疑，國(guó)內(nèi)應(yīng)該引起足夠重視。
